供应商：北京东方德菲仪器有限公司

1. 可以对玻璃、有机玻璃、铜箔等基材以纳米级速度 (变速单位：1nm）进行浸渍镀膜。 2. 1nm/s的超慢速浸渍镀膜有利于分离膜的生成、粒子阵列重排、纳米级膜厚的形成。 3. 采用触控面板操作，可控16级变速程序，可控变速范围（变速单位：lnm/sec）、往复运转、存储8个运转模式。 4. 日语、英语显示可以一键式切换。

供应商：华仪行（北京）科技有限公司

Ossila浸胶机性能zhuo越，内置软件操作简单，价格经济，是科研领域工作者理想的高品质涂胶工具。 浸胶式涂布是工业和科研领域应用广泛的薄片材料镀膜工艺。它可以控制基片从溶液中取出的速度，从而改变镀膜沉积膜的厚度。Ossila浸胶机使用高精度电机，可以极ng准控制膜片提出速度-进而控制涂层厚度，保证良好重复性。 Ossila浸胶机通过狭缝涂布机和注射泵的高精度平台，保证平台活动的高极ng准性，产生优质膜片，重复性好-每次都能如您所愿。本产品提供为期2年的质保，为使用者提供更高的保障。

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VTC-100PA真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。主要特点1、真空吸附方式固定样件，操作简便。2、使用定位工具可将样件很容易地放在中心位置，以减少偏心而造成的震动或飞片。3、根据样件规格可以配用不同的吸盘，且更换方便简单。4、设有12组程序，每组包含6个运行阶段。5、电机启动快速稳定，可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。技术参数1、电机功率：50W/24V2、速度范围：500-10000rpm3、程序运行：可储存12组程序，每组程序包含6

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Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学，05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止，Veeco在ALD设备已有15年多的经验，全球已安装五百多台ALD设备。方式: Plasma &a

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产品简介蒸发膜的厚度分布蒸发源的排放分布特性可用于确定真空室中用于生产均匀厚度涂层的正确几何形状。在大孔径衬底上或者在装载有许多小衬底的架子上生产均匀厚度的涂层可以通过对装有测试件的架子进行重复试验来完成。从一次试运行到下一次试运行，有意改变了几何形状 - 例如蒸发源的偏移量增加了，直到找到**排列。在本文中，我们首先测量了位于已知径向距离处的测试件上的涂层的厚度，在真空蒸发室中的单个旋转平板架上，并使用这些数据来查找源发射函数。然后使用已知的发射函数来确定在直径上产生**厚度均匀性的源偏移和弧线曲率。&

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GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪专门为在基底上镀金属膜（如金、铂、铟、银等）而设计，最大放置样品尺寸直径为40mm，膜厚可达300?，特别适用于为SEM样品镀金而作为导电极。主要特点1、可以调节电流大小，可设置溅射时间。2、已经过CE认证。技术参数1、输入电源：208V-240V 50Hz/60Hz2、样品台：Φ60mm，高度可调节3、石英腔体：Φ100mm×130mm4、进气口：内部装有阀门，可以向腔体内通入各种气体5、靶材：纯度为4N的金靶，Φ57mm×0.12mm 产

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GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸镀仪特别适合蒸镀一些轻金属，如、Al、Mg、和Li等；同时也可对样品进行镀碳处理，最大可处理的样品直径为50mm。主要特点1、配有直连式双旋机械泵（装有油污过滤器和防回油装置），可使真空腔体真空度达到10-2torr。2、配有KF25波纹管和卡箍。3、可进行镀碳处理。4、已通过CE认证。技术参数1、输入电压：AC208V-240V 50/60Hz2、功率：<2000W3、真空腔体：熔融玻璃管，Φ160mm×110mm4、载物台：Φ50mm5、最大蒸镀区域

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GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极（DC）直流溅射原理设计而成的最简单、可靠、经济的镀膜设备，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导体材料实验电极的制作。主要特点1、设有真空表、溅射电流表，可实时监控工作状态。2、通过调节溅射电流控制器、微型真空气阀，控制真空室压强、电离电流及选择所需要的电离气体，以获得**镀膜效 果。3、钟罩边缘橡胶密封圈采用特殊设计，可保证长期使用不出现玻璃钟罩崩边现象。4、陶瓷密封高压电极接头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。5、根据电场中气体电离特性，采

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GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪配备了热蒸发附件，具有溅射和蒸发两种功能。不但可以用等离子溅射的方式镀金属膜，也可以用蒸发的方式得到碳或其他金属单质的薄膜。本机能够满足扫描电子显微镜样品的制备和非导体材料实验电极的制作，也可以用于材料研究中各种新材料性能的实验。主要特点配备了热蒸发附件，可以蒸发碳丝或者其他材料，如铝、不锈钢等材料，同时具有溅射和蒸发的功能。因此扩展了应用范围，特别适用于扫描电镜样品的制备。技术参数1、靶：Φ50mm2、样品台：Φ50mm3、真空室：Φ160mm×110mm4

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GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪是依据二极（DC）直流溅射原理设计而成的最简单、可靠、经济的镀膜设备。本机特别之处是在一个真空室内安装了三个靶，旋转样品台可依次在同一样品上涂覆三种材料。因此，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导体材料实验电极的制作。主要特点1、设有真空表、溅射电流表，可实时监控工作状态。2、通过调节溅射电流控制器、微型真空气阀，控制真空室压强、电离电流及选择所需要的电离气体，以获得**镀膜效 果。3、钟罩边缘橡胶密封圈采用特殊设计，可保证长期使用不出现玻璃钟罩崩

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GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子溅射仪，可进行金、铂、铟、银等多种金属的溅射镀膜，样品直径可达50mm，镀膜厚度可达300埃，特别适用于SEM样品的镀膜。主要特点1、设有真空表、溅射电流表，可实时监控工作状态。2、通过调节溅射电流控制器、微型真空气阀，控制真空室压强、电离电流及选择所需要的电离气体，以获得**镀膜效 果。3、钟罩边缘橡胶密封圈采用特殊设计，可保证长期使用不出现玻璃钟罩崩边现象。4、陶瓷密封高压电极接头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。5、根据电场中气体电离

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GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的蒸发镀膜仪，特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Ti、Al、Au等），也可蒸镀各种氧化物材料。本机设有4个蒸镀加热舟，且每个蒸镀舟都带有挡板。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜，可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求，是一款镀膜效果理想且性价较高的实验设备。主要特点1、真空控制单元全部集合在一个控制盒内。2、采用独立的蒸镀电流控制器，操作方便快捷。3、真空腔体设有1个KF40旁抽阀（直接与前级机械泵相连，方便快速取放样品，提高效率）、1个CF1

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PTL-UMB微米级恒温提拉涂膜机是以微米为计量、专为在液相中提拉涂膜而设计的，通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。本机采用PLC程序控制系统，以彩色触摸屏为数据输入输出端，显示提拉速度、提拉高度、提拉往返次数、间隔时间等参数。主要特点1、采用彩色触摸屏，界面清晰，方便参数设置。2、提拉涂膜的全过程在恒温温度场内进行，有利于薄膜形成及固化。3、操作安全可靠，简单易懂。4、已通过CE认证。技术参数1、电源：220V2、提拉速度：1μm/s-500μm /s3、速度稳定性：±0.05%4、温度：RT-100

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PTL-OV6P 6工位提拉涂膜机在相同外界条件下，对多个样件在不同液相中进行提拉涂膜，主要用于纳米材料研究、表面处理及其它材料的提拉涂膜。主要特点1、设有6个工位，适合一次多个样件的提拉涂膜。2、采用程控提拉速度、浸没时间、干燥时间。3、已通过CE认证。技术参数1、电源：220V2、功率：800W3、提拉速度：1-200mm/min4、温度：RT-100℃5、载料杯：Φ60mm 150ml6、样件尺寸：50mm×25mm×2.5mm产品规格尺寸：450mm×500mm×1060mm重量：40kg标准配件

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PTL-OV5P全自动5工位恒温提拉涂膜机用于同一样件在不同液相中的多层涂膜，最多可达到5层。本机广泛用于纳米、化工、金属等材料领域，更是广大高等院校、研究院所涂膜的理想设备。主要特点1、采用触摸控制屏，根据实际需要设置提拉速度、下降速度、停留时间。2、涂膜全程处在恒温环境中。3、完成一种液相涂层后，自动转入下一工序。4、5工位液相载盘按照程序自动旋转。5、已通过CE认证。技术参数1、提拉速度：1-200mm/min2、速度稳定性：±0.05% 3、温度：RT-100℃4、样件尺寸：75mm×25mm×2

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PTL-MMB02-200恒温垂直提拉涂膜机是专为研究液相生长薄膜而设计的精密设备，在恒温场内通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。本机采用高精度速度控制系统，以及触摸屏参数输入端，实现提拉涂膜全过程的自动控制。主要特点由驱动器细分两相混合式步进电机的步进角度。技术参数1、电源：220V 50Hz2、加热功率：2.3KW3、提拉速度：1-200mm/min4、行程：250mm5、温度：80℃-200℃6、温度精度：±1.5℃7、熔断器：15A8、样件尺寸：407mm×229mm 厚度1-10mm9、提拉负

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PTL-MMB01恒温提拉涂膜机是专为研究液相外延薄膜而设计的，在恒温环境中，通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。主要特点1、提供稳定的恒温提拉涂膜环境。2、已通过CE认证。技术参数1、提拉速度：1-200mm/min2、速度稳定性：±0.05%3、温度：RT-100℃4、样件尺寸：75mm×25mm×2.5mm产品规格尺寸：450mm×500mm×970mm标准配件1、样件夹具2、载料杯3、提拉丝

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PTL-MM02-200程控垂直提拉涂膜机是专为研究液相生长薄膜而设计的精密设备，通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。本机采用高精度速度控制系统，以及触摸屏参数输入端，实现提拉涂膜全过程的自动控制。主要特点可设定提拉速度、停留时间、入液速度、循环次数。技术参数1、电源：220V2、提拉速度：1-200mm/min3、速度稳定性：±0.05%4、行程：270mm5、样件尺寸：310mm×260mm 厚度1-5mm6、提拉负荷：≤5.5kg标准配件1、控制盒2、浸液槽

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PTL-MM02-8P提拉涂膜机是专为研究液相生长薄膜而设计的精密设备，通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜，广泛应用于大专院校、科研院所等研究领域。本机采用高精度速度控制系统，以及触摸屏参数输入端，同时实现5个样件提拉涂膜的全自动控制。主要特点1、8个工位可分别设置不同的提拉速度、停留时间、干燥时间2、适用范围广。技术参数1、电源：220V 50Hz2、X轴速度：500-5000mm/min3、Z轴速度：1-200mm/min4、行程：65mm5、样件尺寸：75mm×25mm×2.5mm6、同时提拉样件

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PTL-MM02程控提拉涂膜机是专为研究液相外延薄膜而设计的，通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。本机采用PLC程序控制，可设定提拉速度、停留时间、入液速度、循环次数。主要特点1、采用彩色触摸屏，方便参数设置及调整。2、已通过CE认证。技术参数1、提拉速度：1-200mm/min2、速度稳定性：±0.05%3、样件尺寸：75mm×25mm×2.5mm产品规格尺寸：320mm×260mm×560mm重量：17kg标准配件1、样件夹具2、载料杯3、提拉丝

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PTL-MM01提拉涂膜机通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。本机采用单板机控制，运行平稳准确，是大专院校、研究院所实验室的理想设备。主要特点1、可配用高达200℃恒温箱，提供稳定的恒温环境进行提拉涂膜。2、已通过CE认证。技术参数1、电源：220V2、功率：50W3、提拉速度：1-200mm/min4、速度稳定性：±0.05%5、样件尺寸：75mm×25mm×2.5mm产品规格尺寸：320mm×260mm×560mm重量：18kg标准配件1、防摆动控制座2、样件夹具3、载料杯4、提拉丝可选配件1、快速

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PTL-HT高温提拉涂膜机能够提供温度高达1000℃的提拉涂膜环境，广泛用于各种高温提拉涂膜研究。例如，陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜。本机能够适应未来高温条件下成膜技术的发展需要。主要特点1、普通提拉涂膜机都是提供200℃以下的温度环境，本机可以提供1000℃以下的高温环境，便于特殊材料的涂膜制备。2、可以在氮气、氩气等惰性保护气体气氛中使用，也可以在氧化气氛中使用。3、设有三段温区，且每段提拉速度均为无级调整。4、采用彩色触摸控制屏，方便数据输入，操作简单快捷。5、已通过CE认证。

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VTC-100PA真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。主要特点1、真空吸附方式固定样件，操作简便。2、使用定位工具可将样件很容易地放在中心位置，以减少偏心而造成的震动或飞片。3、根据样件规格可以配用不同的吸盘，且更换方便简单。4、设有12组程序，每组包含6个运行阶段。5、电机启动快速稳定，可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。技术参数1、电机功率：50W/24V2、速度范围：500-10000rpm3、程序运行：可储存12组程序，每组程序包含6

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1、设有?120mm的炉门，方便取放样品。 2、设有前后观察视窗，方便观测起弧熔化状态。 3、真空室、铜坩埚、起弧电极都采用水冷冷却方式。 4、上下移动采用方向盘式设计，操作摇杆转动灵活。 5、为了保证在不破坏气体保护气氛的条件下翻转合金锭进行多次熔炼，熔炼炉中采用了机械手翻转机构。 6、坩埚尺寸小且数量多，可以方便制作多个样品，又可避免样品间的相互污染。 7、操作简单，安全方便，设计小巧，占地面积极少。

供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

1、真空吸附方式固定样件，操作简便。 2、真空度可以达到-0.08MPa。 3、使用定位工具可将样件很容易地放在中心位置，以减少偏心而造成的震动或飞片。 4、根据样件规格可以配用不同的吸盘，且更换方便简单。 5、电机采用24V直流无刷电机，可靠性高，适应性强，维修与保养简单，噪音低，震动小，运转平稳，启动快速稳定，加速后运行平稳，可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。 6、采用无油双杠真空泵，体积小巧、结构简单、操作容易、维护方便、不会污染环境等优点。 7、腔体采用聚丙烯材质，使用寿命更长，提高耐化学腐蚀性和优异的抗应力开裂性能；机身采用铸铝结构，结实耐用且质轻。 8、可在惰性气体气氛（如Ar、N2）下进行涂层。 9、全英文操作系统。 10、具有开盖保护功能，当涂膜过程中或涂膜结束时打开上盖后机器立刻迅速减速直到停止。 11、控制界面采用液晶显示屏+单板机控制系统，数值显示更直观可靠。

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1、设有6个工位，样件可以进行逆时针旋转。 2、采用程控提拉速度、浸渍时间、干燥时间等。 3、采用高精度步进电机。 4、已通过CE认证。

供应商：徕卡显微系统(上海)贸易有限公司

Leica EM ACE600是优良的多用途高真空薄膜沉积系统，设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的，细粒度的和导电的金属和碳涂层，用于zui高分辨率分析。

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配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。

供应商：北京东方德菲仪器有限公司

1. 日本畅销的超低速浸渍提拉镀膜仪，速度可变范围从1nm/s到60mm/s。 2. 适用于纳米级分离膜的生成、粒子阵列和膜厚的形成。 3. 触控面板采用日语、英语两种语言，且可以一键式切换。

供应商：北京东方德菲仪器有限公司

1. 可以对玻璃、有机玻璃、铜箔等基材以纳米级速度 (变速单位：1nm）进行浸渍镀膜。 2. 1nm/s的超慢速浸渍镀膜有利于分离膜的生成、粒子阵列重排、纳米级膜厚的形成。 3. 采用触控面板操作，可控16级变速程序，可控变速范围（变速单位：lnm/sec）、往复运转、存储8个运转模式。 4. 日语、英语显示可以一键式切换。

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VTC-300USS超声雾化旋转涂膜机可以精确控制溶液化学计量比、雾粒喷出速度、雾粒大小等参数。采用步进电机和微处理器控制容积泵精确输送溶液（溶液可以选择被加热）；超声波雾化器可以制备厚度较薄的微纳米涂层，且被固定在可摆动的支撑臂上，以确保涂层的均匀性；可吸附基片尺寸最大可达12"（300mm），同时可控制基底温度（选择可加热衬底的烘烤灯），以满足实验需要。安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：不需要2、电：AC220V 50Hz，必须有良好

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产品简介MSK-NFES-4静电纺丝纳米纤维制备系统是一个完整的纳米纤维制备系统，或者说是一个完整的静电纺丝涂覆系统（或电喷镀）。具有操作软件友好、设计以任务作业为基准、易于操作、优越的性价比等优点，因此领xian于市场其他同类产品。可生产直径20nm-1000nm的超细纳米纤维，也可用于在基底上进行电喷雾涂层材料，相比于电纺丝，电喷雾涂层需要一个低粘度解决方案和更高的电压。主要特点1、友好的操作软件界面，使得计算机能够帮助管理和控制各种参数，如旋转心轴速度、旋转时间、注射泵流量、XY方向运动等。2、采用

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MSK-SP-04-LD超声雾化热解涂覆薄膜机可以精确控制溶液化学计量比、雾粒的喷出速度和雾粒大小等参数，采用步进电机和微处理器来控制容积泵来精确输送溶剂。一个超声波雾化器可以制备厚度较薄的微纳米涂层，并且由一步进电机控制可在X轴和Y轴方向移动，以确保涂层的均匀性。同时基底温度可以进行控制，以满足实验需要。主要特点喷雾热解制膜法，是将溶液雾化后喷涂到加热的基底上，然后在基底上得到想得到的物质结构。此种材料制备方法特别适用于沉积氧化物，而且在制备透明电极的应用中已有相当长的历史。现在这种方法在制备钙钛矿型太

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VTC-16-3HD3靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子薄膜溅射仪（直流普通型），控制面板采用触摸屏模式，基片最大尺寸2″，放置样品的直径为Φ50mm，加热温度达500℃。本机可溅射金、银、铜三种靶材，并采用旋转式样品台，能够依次在同一样品上涂覆三层薄膜。主要特点1、PLC控制面板，4.3″触摸屏，PID控温方式。2、可控参数包括真空度、电流、靶材位置、基片加热温度。3、可与真空泵、不锈钢波纹管KFD25快速卸装卡箍连用。4、已通过CE认证。技术参数1、输入功率：110V/220V通用 2000W（含真空

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产品简介：GSL-1100X-SPC-12H加热型等离子薄膜溅射仪专门为在基底上镀金属膜（如金、铂、铟、银等）而设计，最大放置样品尺寸直径为40mm，膜厚可达300?，特别适用于为SEM样品镀金而作为导电极。主要特点1、配有2L/s双旋片机械泵，出气口装有立式油雾过滤器，过滤真空泵工作时产生的油烟，减少泵的损耗，保护环境和人体健康。2、已经过CE认证。技术参数1、输入电源：208V-240V 50Hz/60Hz <3000W2、石英腔体：Φ100mm×130mm 3、样品台：Φ60mm，高度可调节

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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是zuixin研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。主要特点1、配置两个靶枪，一个为配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个为配套直流电源用于导电类材料的溅射镀膜。2、可制备多种薄膜，应用广泛。3、体积小，操作简便。技术参数1、电源电压：220V 50Hz